作者:Sachin Shridhar Paradkar,Francois Perraud,Littelfuse德国产品营销部
传统分立式SiC MOSFET与散热器的隔离依赖于外部导热电绝缘材料。这不仅增加了结对散热片的热阻,还使热管理复杂化,并在自动和手动装配过程中造成障碍。此外,导热性差还会降低功率和电流处理能力,大大限制了碳化硅芯片的最佳利用率。Littelfuse的ISO247封装采用高性能氮化硅 (Si3N4) 陶瓷,可应对这些挑战,提高SiC芯片的利用率,增强基于SiC MOSFET的应用。
ISO247-基于高性能陶瓷的分立隔离封装
- 基于高性能陶瓷的活性金属钎焊(AMB)基板具有固有的隔离性能、更高的热导率和更低的热阻(结到散热器)[1];
- 隔离电压额定值为2.5千伏交流1分钟或3千伏交流1秒;
- 由于碳化硅芯片和AMB基底面的热膨胀系数(CTE)相匹配,因此具有更高的温度和秒级功率循环(PCsec)承受能力[1];
- 提高功率密度,简化热管理;
- 芯片到散热器的杂散电容小,从而降低了EMI。

图1 TO-247与ISO247封装的内部结构和安装差异
基于ISO247和TO247的SiC MOSFET热性能比较
表1 用于比较SiC MOSFET热性能的ISO247和TO-247器件
利用ISO247提高应用输出功率并降低系统级成本
直接成本节约归功于电流和功率处理能力的增强、功率密度的提高、PCB面积的节省以及碳化硅芯片成本的降低; 由于消除了隔离片,减少了潜在的保修索赔,从而间接节约了成本。

图2 基于ISO247和TO-247的SiC MOSFET的a)热阻抗和b)结温测量对比

图3 a) Tvj=130°C时的热测量结果;b) 使用ISO247估计可增加的应用输出功率
表2 使用ISO247系统节约成本的机会

总结
参考文献:
文章来源:Littelfuse