作者:George Hempt,来源:DigiKey电子技术台
文章概述
本文介绍了宽带隙(GaN)技术在高压LED照明中的应用,以及如何解决效率和功率密度挑战。文章重点讨论了利用GaN技术的LED驱动器架构的降压部分,展示了如何通过宽带隙技术提高效率和功率密度。文中还介绍了STMicroelectronics的MasterGaN系列,该系列将高电压智能功率BCD工艺栅极驱动器与高电压GaN晶体管结合,简化了设计并提高了功率密度。
事实证明,高压LED照明可以有效地取代高强度放电 (HID) 照明等先前技术。随着高压 LED照明得到采用,许多制造商争相生产并在各种应用中进行实施。虽然这种技术在光的质量和功率密度方面有了很大的提高,但效率已成为一个有待解决的重要问题。另外,早期应用的故障率远高于预期。高压 LED照明面临的主要挑战是继续提高功率密度和效率,并提升可靠性和经济性,以满足未来应用需求。本文将介绍宽带隙 (GaN) 技术,以及该技术如何解决高压 LED照明的效率和功率密度挑战。文中将展示如何利用宽带隙技术极大提高效率和功率密度,其中重点讨论图 1 所示的 LED驱动器架构的降压部分。
与硅等传统半导体相比,宽带隙 (GaN) 半导体可以在更高的开关频率下工作。宽带隙材料需要更高的能量来激发电子,使其从价带顶部跃迁到导带底部,以便能够在电路中使用。因此,增加带隙对器件有很大的影响(并支持使用更小的芯片来完成同样的工作)。像氮化镓 (GaN) 这样具有较大带隙的材料可以承受更强的电场。宽带隙材料的关键特性是具有高自由电子速度和更高的电子场密度。这些关键特性使 GaN 开关的速度提高多达 10 倍,尺寸也显著缩小,而电阻和击穿电压却与类似的硅元器件相同。GaN 非常适合高压 LED应用,以上关键特性使其成为未来照明应用的理想选择。


图 2:使用MASTERGAN4 实现的反相降压拓扑结构。(图片来源:STMicroelectronics)

图 3:使用MASTERGaN4 的反相降压演示实例。(图片来源:STMicroelectronics)
实验结果:

图 4:MasterGaN和硅 MOSFET 的效率与 LED电压的关系。(图片来源:STMicroelectronics)
在整个LED灯串电压范围内,MASTERGAN4的效率保持在 96.8% 或以上。我们可以观察到,由于 GaN解决方案的传导损耗很低,并且驱动和开关损耗极小,因此在所有功率水平上,效率都得到了最大程度的提高。

总结
本文讨论了基于 MASTERGAN4 的 LED照明应用的反相降压拓扑结构的实现。该器件采用系统级封装配置,具有 650 V、225 mΩ 的半桥配置GaN 晶体管和专用栅极驱动器。相较于硅解决方案,GaN 解决方案的效率更高,PCB 面积更小。MasterGaN 是用于照明应用的理想解决方案,可以实现紧凑、高效率、高功率的反相降压拓扑结构。